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A. 氯化鈉固體B. 硫酸鉀溶液

C. 石墨碳棒D. 熔融氫氧化鉀

A. 1 molL-1 B. 0.5 molL-1 C. 0.25 molL-1 D. 0.2 molL-1

【題目】下列電離或水解方程式書寫不正確的是（ ）
A.碳酸氫鈉的電離方程式為：NaHCO3═Na++HCO ?? HCO ?H++CO
B.偏鋁酸鈉的水解方程式為：AlO2﹣+2H2O═Al（OH）3↓+OH﹣
C.硫化鋁溶于水的水解方程式為：Al2S3+6H2O═2Al（OH）3↓+3H2S↑
D.醋酸銨的水解方程式為：CH3COO﹣+NH +H2O?CH3COOH+NH3?H2O

A. 原子半徑：Z＞Y＞X

B. 氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性：W＞R

C. W最高價氧化物對應的水化物是強堿

D. Y和Z兩者最高價氧化物對應的水化物能相互反應

A. 復分解反應B. 氧化還原反應C. 置換反應D. 蒸發(fā)結(jié)晶

A. 裝置①可用于分離酒精和水的混合物

B. 裝置②可用于收集NH3、Cl2、SO2、NO2等氣體

C. 裝置③中X若為CCl4，可用于吸收NH3或HCl，并防止倒吸

D. 裝置④可用于干燥、收集NH3，并吸收多余的NH3

（1） ①E元素在元素周期表中的位置是________________。

②由D和F，Y，Z所形成的最簡單常見共價型化合物中，熱穩(wěn)定性最差的是______(用化學式表示，下同)；還原性最強的是________。

③D、F、Z形成一種離子化合物，寫出它的電子式__________。

（2）①2012年，羅馬大學科學家制造出F4分子，則F4和F2兩種單質(zhì)的關系是_______。

②F、X形成的一種二元離子化合物具有非常強的爆炸性，該物質(zhì)中X的質(zhì)量分數(shù)是35.38%，則該物質(zhì)的化學式為_________。

③Z單質(zhì)和FD3發(fā)生置換反應，觀察到有大量白煙生成，寫出該反應化學方程式________，反應中氧化劑和還原劑物質(zhì)的量之比為________。

【題目】下列敘述不正確的是（ ）
A.將廢棄的含鉛、汞電子產(chǎn)品掩埋地下，防止污染環(huán)境
B.大力發(fā)展氫能源汽車減少碳排放
C.控制鹵代烴的使用，減少對臭氧層的破壞
D.大力發(fā)展核能，減少化石能源的使用，有利于保護環(huán)境

【題目】A、B、C、D為原子序數(shù)依次增大的四種元素，A2﹣和B+具有相同的電子構(gòu)型；C、D為同周期元索，C核外電子總數(shù)是最外層電子數(shù)的3倍；D元素最外層有一個未成對電子．回答下列問題：
（1）四種元素中電負性最大的是（填元素符號），其中C原子的核外電子排布式為 ．
（2）單質(zhì)A有兩種同素異形體，其中沸點高的是（填分子式），原因是；A和B的氫化物所屬的晶體類型分別為和 ．
（3）C和D反應可生成組成比為1：3的化合物E，E的立體構(gòu)型為 ， 中心原子的雜化軌道類型 ．
（4）化合物D2A的立體構(gòu)型為 ， 中心原子的價層電子對數(shù)為 ， 單質(zhì)D與濕潤的Na2CO3反應可制備D2A，其化學方程式為 ．
（5）A和B能夠形成化合物F，其晶胞結(jié)構(gòu)如圖所示，晶胞參數(shù)a=0.566nm，F(xiàn)的化學式為 ， 晶胞中A原子的配位數(shù)為；列式計算晶體F的密度（gcm﹣3）．

【題目】氰化鈉（NaCN）是一種重要化工原料，用于化學合成、電鍍、冶金等方面．NaCN有劇毒，含氰廢水需經(jīng)無害化處理才能排放，某電鍍廠含氰廢水的一種工業(yè)處理流程如下：
已知：HCNO的結(jié)構(gòu)式是：H﹣O﹣C≡N
HCN的Ka=6.02×10﹣10
[Ag（CN）2]﹣（aq）Ag+（aq）+2CN﹣（aq） K=1.3×10﹣21
回答下列問題：
（1）CN﹣中兩原子均為8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，請寫出CN﹣的電子式 ．
（2）氰化鈉遇水會產(chǎn)生劇毒氫氰酸，請寫出相應的離子方程式 ．
（3）向發(fā)生塔中通水蒸汽的目的是 ．
（4）氧化池中氰化物的降解分兩步進行，CN﹣被氯氣氧化成低毒的CNO﹣ ， 寫出相應的離子方程式 ， CNO﹣被氯氣氧化成無毒的兩種氣體，寫出相應的離子方程式
（5）貯水池中廢水須先經(jīng)堿化后再進行氧化的原因 ．
（6）電鍍廠電鍍銀時需要降低鍍層金屬的沉積速度，使鍍層更加致密．電解液使用Na[Ag（CN）2]，請寫出陰極反應式 ， 解釋工業(yè)電鍍中使用氰離子（CN﹣）的原因 ．