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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。

回答下列問(wèn)題

（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                    ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                     。

（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

結(jié)論：從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下，H₂O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應(yīng)             。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應(yīng)中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；

D．氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問(wèn)題
（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH^一反應(yīng)，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄�；�于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本校化學(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

在一百多種化學(xué)元素中，非金屬占了23種。80%的非金屬元素在社會(huì)中占重要位置。如C、N、O、Si、Cl等。

（1）氯元素原子最外電子層上有    種能量不同的電子，該元素的簡(jiǎn)單陰離子核外電子排布式是                   。

（2）由氮元素與硅元素組成的物質(zhì)，可用于制造發(fā)動(dòng)機(jī)的耐熱部件，因?yàn)樗鼘儆?u>        晶體，請(qǐng)寫出該化合物的化學(xué)式             。

（3）下列事實(shí)能說(shuō)明氯與氧兩元素非金屬性相對(duì)強(qiáng)弱的有            。（選填編號(hào)）

a．Cl原子最外層電子數(shù)比氧多

b．酸性：HCl＞H₂O

c．ClO₂中氯元素為+4價(jià)，氧元素為−2價(jià)

d．沸點(diǎn)：H₂O＞HCl

與Cl₂相比較，ClO₂處理水時(shí)被還原成Cl^－，不生成有機(jī)氯代物等有害物質(zhì)。工業(yè)上可用亞氯酸鈉和稀鹽酸為原料制備ClO₂，反應(yīng)如下：NaClO₂ +HCl ClO₂↑+___________________（沒(méi)有配平）

（4）上述方程式中，缺項(xiàng)物質(zhì)是___________，配平方程式，并在下面補(bǔ)全反應(yīng)物系數(shù)。____NaClO₂ +____HCl

（5）該反應(yīng)中氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量之比是        。生成0.2 mol ClO₂轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為 _______ mol。

（6）ClO₂對(duì)污水中Fe^2＋、Mn^2＋、S^2－和CN^－等有明顯的去除效果。某污水中含CN^－a mg/L，現(xiàn)用ClO₂將CN^－氧化，只生成兩種無(wú)毒氣體。處理100m³這種污水，至少需要ClO₂ _______ mol 。

在一百多種化學(xué)元素中，非金屬占了23種。80%的非金屬元素在社會(huì)中占重要位置。如C、N、O、Si、Cl等。
（1）氯元素原子最外電子層上有   種能量不同的電子，該元素的簡(jiǎn)單陰離子核外電子排布式是                  。
（2）由氮元素與硅元素組成的物質(zhì)，可用于制造發(fā)動(dòng)機(jī)的耐熱部件，因?yàn)樗鼘儆?u>       晶體，請(qǐng)寫出該化合物的化學(xué)式            。
（3）下列事實(shí)能說(shuō)明氯與氧兩元素非金屬性相對(duì)強(qiáng)弱的有           。（選填編號(hào)）
a．Cl原子最外層電子數(shù)比氧多
b．酸性：HCl＞H₂O
c．ClO₂中氯元素為+4價(jià)，氧元素為?2價(jià)
d．沸點(diǎn)：H₂O＞HCl
與Cl₂相比較，ClO₂處理水時(shí)被還原成Cl^－，不生成有機(jī)氯代物等有害物質(zhì)。工業(yè)上可用亞氯酸鈉和稀鹽酸為原料制備ClO₂，反應(yīng)如下：NaClO₂ +HCl ClO₂↑+___________________（沒(méi)有配平）
（4）上述方程式中，缺項(xiàng)物質(zhì)是___________，配平方程式，并在下面補(bǔ)全反應(yīng)物系數(shù)。____NaClO₂ +____HCl
（5）該反應(yīng)中氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量之比是       。生成0.2 mol ClO₂轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為_______ mol。
（6）ClO₂對(duì)污水中Fe^2＋、Mn^2＋、S^2－和CN^－等有明顯的去除效果。某污水中含CN^－a mg/L，現(xiàn)用ClO₂將CN^－氧化，只生成兩種無(wú)毒氣體。處理100m³這種污水，至少需要ClO₂ _______ mol 。