題目列表(包括答案和解析)
| A、二氧化硅中有少量的氧化鋁:加過量的燒堿溶液后過濾 | B、NH4Cl中有少量的I2:通過加熱的方法 | C、Na2CO3溶液(Na2SO4):加入適量Ba(OH)2溶液,過濾 | D、CO2氣體(HCl):通過飽和NaHCO3溶液后干燥 |
下列除雜質(zhì)的操作方法正確的是( )
| A.二氧化硅中有少量的氧化鋁:加過量的燒堿溶液后過濾 |
| B.NH4Cl中有少量的I2:通過加熱的方法 |
| C.Na2CO3溶液(Na2SO4):加入適量Ba(OH)2溶液,過濾 |
| D.CO2氣體(HCl):通過飽和NaHCO3溶液后干燥 |
下列除雜質(zhì)的操作方法正確的是( )
A.二氧化硅中有少量的氧化鋁:加過量的燒堿溶液后過濾
B.NH4Cl中有少量的I2:通過加熱的方法
C. Na2CO3溶液(Na2SO4):加入適量Ba(OH)2溶液,過濾
D.CO2氣體(HCl):通過飽和NaHCO3溶液后干燥
| A.二氧化硅中有少量的氧化鋁:加過量的燒堿溶液后過濾 |
| B.NH4Cl中有少量的I2:通過加熱的方法 |
| C.Na2CO3溶液(Na2SO4):加入適量Ba(OH)2溶液,過濾 |
| D.CO2氣體(HCl):通過飽和NaHCO3溶液后干燥 |
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