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海戰(zhàn)中為了掩蔽，常噴放SiCl₄和液氨，而形成很濃的煙霧，若煙霧的成分是H₂SiO₃小顆粒和NH₄Cl晶粒及水霧等，試寫出生成它們的化學方程式。_________________________________________

四氯化硅不穩(wěn)定，遇水會生成硅酸和氯化氫，在現(xiàn)代海戰(zhàn)中為了進行掩蔽常噴四氯化硅的液氨，形成很濃煙幕的原因是________．有關化學反應方程式為________．

在海戰(zhàn)中為了進行掩蔽, 常噴放SiCl4(不穩(wěn)定, 易水解)和液氨, 形成很濃的煙幕,這煙幕的主要成分是  

[　　]

A. SiO2　　B. HCl　　C. NH3　　D. NH4Cl

(2)硅也常用于制造新型無機非金屬材料，如氮化硅陶瓷和碳化硅陶瓷等。在高純硅的制取過程中，也有中間產(chǎn)物為SiCl₄，請寫出以石英沙(SiO₂)為原料，通過SiO₂→SiSiCl₄Si，制得高純硅的化學方程式。