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依據(jù)上圖，完成下列填空：

(1)在電解過(guò)程中，與電源正極相連的電極上所發(fā)生反應(yīng)的方程式為_(kāi)__________________。與電源負(fù)極相連的電極附近溶液Ph_________(填“不變”“升高”或“降低”)。

(2)工業(yè)食鹽含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過(guò)程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)_____________。

(3)如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該試劑可以是_____________。

a.Ba(OH)₂                 b.Ba(NO₃)₂               c.BaCl₂

(4)為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序?yàn)開(kāi)__________(選a、b、c)。

a.先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

b.先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

c.先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

(5)脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過(guò)___________、冷卻、_________(填寫(xiě)操作名稱(chēng))除去NaCl。

(6)在用陽(yáng)離子交換膜法電解食鹽水時(shí)，電解槽分隔為陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)，可防止Cl₂與NaOH反應(yīng)。采用無(wú)隔膜電解冷的食鹽水時(shí)，Cl₂與NaOH充分反應(yīng)，產(chǎn)物最終僅有NaClO和H₂，相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)__________________________、_______________________。

氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下：   

依據(jù)上圖，完成下列填空：

    （1）工業(yè)食鹽中含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過(guò)程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為     ___________________________，___________________________。

    （2）如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該鋇試劑可以是________________。

    a．Ba（OH）₂?b．Ba（NO₃）₂?c．BaCl₂

    （3）為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序?yàn)開(kāi)___________。

    a．先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

    b．先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

    c．先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

    （4）脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過(guò)______________、冷卻、______________除去NaCl。（填寫(xiě)操作名稱(chēng)）

    （5）電解食鹽水時(shí)，總的反應(yīng)方程式為_(kāi)___________________________。

    （6）在隔膜法電解食鹽水時(shí)，電解槽分隔為陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)，防止Cl₂與NaOH反應(yīng)；采用無(wú)隔膜電解冷的食鹽水時(shí)，Cl₂與NaOH充分接觸，產(chǎn)物僅是NaClO和H₂，相應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)___________________________。

氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下：   

依據(jù)上圖，完成下列填空：

    （1）工業(yè)食鹽中含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過(guò)程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為     ___________________________，___________________________。

    （2）如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該鋇試劑可以是________________。

    a．Ba（OH）₂?b．Ba（NO₃）₂?c．BaCl₂

    （3）為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序?yàn)開(kāi)___________。

    a．先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

    b．先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

    c．先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

    （4）脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過(guò)______________、冷卻、______________除去NaCl。（填寫(xiě)操作名稱(chēng)）

    （5）電解食鹽水時(shí)，總的反應(yīng)方程式為_(kāi)___________________________。

    （6）在隔膜法電解食鹽水時(shí)，電解槽分隔為陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)，防止Cl₂與NaOH反應(yīng)；采用無(wú)隔膜電解冷的食鹽水時(shí)，Cl₂與NaOH充分接觸，產(chǎn)物僅是NaClO和H₂，相應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)___________________________。

工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是     ； NaOH溶液的出口為_(kāi)_____ (填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為_(kāi)____ (填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用。精制時(shí)，粗鹽溶于水過(guò)濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是     （2分)(填序號(hào))。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為                          。也可轉(zhuǎn)化為而循環(huán)使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發(fā)生反應(yīng)_: ，達(dá)平衡后，H2與SiHCL₃物質(zhì)的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的物質(zhì)的量為_(kāi)______ mol。

(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時(shí)放出92. 3 kj的熱量，則該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為:                                    。