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13.下列物質(zhì)中.不能與SiO2反應的是( ) A.純堿 B.燒堿 C.氫氟酸 D.硝酸 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO

(2)在生成SiHCl3的反應中,還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為
14:1
14:1

(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發(fā)生的反應是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2

(4)下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是
B C D
B C D
(填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
B.用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質(zhì)相似,在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應,而不與任何酸反應.

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(15分)高純晶體硅是信息技術(shù)的關鍵材料。
(1)硅元素位于周期表的______周期______族。下面有關硅材料的說法中正確的是__________(填字母)。
A.碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料———光導纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,故在玻璃尖口點燃H2時出現(xiàn)黃色火焰
E.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(2)工業(yè)上用石英砂和焦炭可制得粗硅。
已知:

請將以下反應的熱化學方程式補充完整:
SiO2(s) + 2C(s) ="==" Si(s) + 2CO(g)   △H = ________
(3)粗硅經(jīng)系列反應可生成硅烷(SiH4),硅烷分解生成高純硅。已知硅烷的分解溫度遠低于甲烷,用原子結(jié)構(gòu)解釋其原因:_________,Si元素的非金屬性弱于C元素,硅烷的熱穩(wěn)定性弱于甲烷。
(4)將粗硅轉(zhuǎn)化成三氯氫硅(SiHCl3),進一步反應也可制得高純硅。
①SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等雜質(zhì)對晶體硅的質(zhì)量有影響。根據(jù)下表數(shù)據(jù),可用________ 方法提純SiHCl3。
物質(zhì)
SiHCl3
SiCl4
AsCl3
沸點/℃
32.0
57.5
131.6
②用SiHCl3制備高純硅的反應為SiHCl3(g) +H2(g) Si(s) + 3HCl(g), 不同溫度下,SiHCl3的平衡轉(zhuǎn)化率隨反應物的投料比(反應初始時,各反應物的物質(zhì)的量之比)的變化關系如右圖所示。下列說法正確的是________(填字母序號)。

a.該反應的平衡常數(shù)隨溫度升高而增大
b.橫坐標表示的投料比應該是
c.實際生產(chǎn)中為提高SiHCl3的利用率,應適當升高溫度
③整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學反應方程式:____________________。

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晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式______.
(2)在生成SiHCl3的反應中,還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為______.
(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發(fā)生的反應是______.
(4)下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是______(填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
B.用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質(zhì)相似,在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應,而不與任何酸反應.

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晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:

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已知SiHCl3能與H2O強烈反應,生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式______.
(2)在生成SiHCl3的反應中,還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為______.
(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發(fā)生的反應是______.
(4)下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是______(填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
B.用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質(zhì)相似,在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應,而不與任何酸反應.

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晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式   
(2)在生成SiHCl3的反應中,還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為   
(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發(fā)生的反應是   
(4)下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是    (填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結(jié)合
B.用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質(zhì)相似,在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應,而不與任何酸反應.

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