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依據(jù)上圖，完成下列填空：

(1)在電解過程中，與電源正極相連的電極上所發(fā)生反應的方程式為___________________。與電源負極相連的電極附近溶液Ph_________(填“不變”“升高”或“降低”)。

(2)工業(yè)食鹽含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過程中發(fā)生反應的離子方程式為______________。

(3)如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該試劑可以是_____________。

a.Ba(OH)₂                 b.Ba(NO₃)₂               c.BaCl₂

(4)為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序為___________(選a、b、c)。

a.先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

b.先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

c.先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

(5)脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過___________、冷卻、_________(填寫操作名稱)除去NaCl。

(6)在用陽離子交換膜法電解食鹽水時，電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū)，可防止Cl₂與NaOH反應。采用無隔膜電解冷的食鹽水時，Cl₂與NaOH充分反應，產(chǎn)物最終僅有NaClO和H₂，相應的化學反應方程式為___________________________、_______________________。

氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下：   

依據(jù)上圖，完成下列填空：

    （1）工業(yè)食鹽中含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過程中發(fā)生反應的離子方程式為     ___________________________，___________________________。

    （2）如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該鋇試劑可以是________________。

    a．Ba（OH）₂?b．Ba（NO₃）₂?c．BaCl₂

    （3）為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序為____________。

    a．先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

    b．先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

    c．先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

    （4）脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過______________、冷卻、______________除去NaCl。（填寫操作名稱）

    （5）電解食鹽水時，總的反應方程式為____________________________。

    （6）在隔膜法電解食鹽水時，電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū)，防止Cl₂與NaOH反應；采用無隔膜電解冷的食鹽水時，Cl₂與NaOH充分接觸，產(chǎn)物僅是NaClO和H₂，相應的化學方程式為____________________________。

氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下：   

依據(jù)上圖，完成下列填空：

    （1）工業(yè)食鹽中含Ca²⁺、Mg²⁺等雜質(zhì)，精制過程中發(fā)生反應的離子方程式為     ___________________________，___________________________。

    （2）如果粗鹽中含量較高，必須添加鋇試劑除去，該鋇試劑可以是________________。

    a．Ba（OH）₂?b．Ba（NO₃）₂?c．BaCl₂

    （3）為有效除去Ca²⁺、Mg²⁺、，加入試劑的合理順序為____________。

    a．先加NaOH，后加Na₂CO₃，再加鋇試劑

    b．先加NaOH，后加鋇試劑，再加Na₂CO₃

    c．先加鋇試劑，后加NaOH，再加Na₂CO₃

    （4）脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異，通過______________、冷卻、______________除去NaCl。（填寫操作名稱）

    （5）電解食鹽水時，總的反應方程式為____________________________。

    （6）在隔膜法電解食鹽水時，電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū)，防止Cl₂與NaOH反應；采用無隔膜電解冷的食鹽水時，Cl₂與NaOH充分接觸，產(chǎn)物僅是NaClO和H₂，相應的化學方程式為____________________________。

（1）如圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖。電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是____________；NaOH溶液的出口為___________（填字母）；精制飽和食鹽水的進口為___________（填字母）；干燥塔中應使用的液體是___________。

（2）多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注。

①SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產(chǎn)物有兩種，化學方程式為____________________________________________。

②SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用。一定條件下，在20 L恒容密閉容器中的反應：

3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）4SiHCl₃（g）

達平衡后，H₂和SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140 mol/L和0.020 mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為___________kg。

（3）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時生成氫氣。現(xiàn)制得氯酸鈉213.0 kg，則生成氫氣_________m³（標準狀況）。

工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)如圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是________；NaOH溶液的出口為________(填字母)；精制飽和食鹽水的進口為________(填字母)；干燥塔中應使用的液體是________。

(2)多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注。

①SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同)，方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產(chǎn)物有兩種，化學方程式為______________________。

②SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用。一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應：

3SiCl₄(g)＋2H₂(g)＋Si(g)4SiHCl₃(g)

達平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為________kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時生成氫氣，現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣________m³(標準狀況)。