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30.工業(yè)上主要采用電解飽和食鹽水的方法來制取Cl2.H2.NaOH.請回答下列問題: (1)在電解過程中.所發(fā)生反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式為: , (2)電解之前食鹽水需要精制.目的是除去粗鹽的中的Ca2+.Mg2+.SO42-等雜質(zhì)離子.使用的試劑有:a.Na2CO3溶液 b.Ba(OH)2溶液 c.稀鹽酸.其中合理的加入順序為 , (3)如果在容積為10L的電解池內(nèi).一段時間后共收集到11.2L氣體.這時溶液中NaOH的物質(zhì)的量濃度為 (設(shè)電解時溶液的體積不變). 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

工業(yè)上主要采用電解飽和食鹽水的方法來制取Cl2、H2、NaOH。請回答下列問題:

(1)在電解過程中,所發(fā)生反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式為:                  

(2)電解之前食鹽水需要精制,目的是除去粗鹽的中的Ca2+、Mg2+、SO42-等雜質(zhì)離子,使用的試劑有:a、Na2CO3溶液    b、Ba(OH)2溶液     c、稀鹽酸。其中合理的加入順序為                           (填寫序號) ;

(3)如果在容積為10L的電解池內(nèi),一段時間后共收集到11.2L(標準狀況)氣體。這時溶液中NaOH的物質(zhì)的量濃度為          (設(shè)電解時溶液的體積不變)。

 

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工業(yè)上主要采用電解飽和食鹽水的方法來制取Cl2、H2、NaOH。請回答下列問題:

(1)在電解過程中,所發(fā)生反應(yīng)的離子反應(yīng)方程式為:                   ;

(2)電解之前食鹽水需要精制,目的是除去粗鹽的中的Ca2+、Mg2+、SO42-等雜質(zhì)離子,使用的試劑有:a、Na2CO3溶液    b、Ba(OH)2溶液     c、稀鹽酸。其中合理的加入順序為                            (填寫序號) ;

(3)如果在容積為10L的電解池內(nèi),一段時間后共收集到11.2L(標準狀況)氣體。這時溶液中NaOH的物質(zhì)的量濃度為           (設(shè)電解時溶液的體積不變)。

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)如圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖。電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是____________;NaOH溶液的出口為___________(填字母);精制飽和食鹽水的進口為___________(填字母);干燥塔中應(yīng)使用的液體是___________。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為____________________________________________。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20 L恒容密閉容器中的反應(yīng):

3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2和SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140 mol/L和0.020 mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為___________kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,F(xiàn)制得氯酸鈉213.0 kg,則生成氫氣_________m3(標準狀況)。

 

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是     ; NaOH溶液的出口為______ (填字母);精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母);干燥塔中使用的液體干燥劑是____(每空2分)。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì),必須精制后才能供電解使用。精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加人的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)、③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是     (2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為                          也可轉(zhuǎn)化為而循環(huán)使用。一定條件下,在200C恒容密閉容器中發(fā)生反應(yīng): ,達平衡后,H2與SiHCL3物質(zhì)的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的物質(zhì)的量為_______ mol。

(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量,則該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為:                                    。

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)如圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是________;NaOH溶液的出口為________(填字母);精制飽和食鹽水的進口為________(填字母);干燥塔中應(yīng)使用的液體是________。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為______________________。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應(yīng):

3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(g)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為________kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣________m3(標準狀況)。

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