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高純硅常用于電子工業(yè).制備純硅反應的熱化學方程式如下: SiCl4(g)+2H2(g)Si,△H= +QkJ/mol 某溫度.壓強下.只將一定量反應物通入2L的密閉容器進行以上反應.下列敘述不正確的是 A.尋找性質優(yōu)良的催化劑.適當降低反應所吸收的能量 B.若反應開始投入H2為1mol.則達平衡時.吸收熱量為0.5QkJ C.反應至4min時.若HCl為0.24mol.則H2的反應速率為0.015mol/(Lmin) D.當反應吸熱0.5QkJ時.生成的HCl通入1 L 2mol/L的NaOH溶液恰好反應 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

“材料”的發(fā)現(xiàn)和使用往往會極大地推動生產(chǎn)、生活的發(fā)展,一些材料的出現(xiàn)甚至具有里程碑式劃時代的意義.請你回答以下問題:
(1)無機非金屬材料.高純度單晶硅是典型的無機非金屬材料,又稱“半導體”材料,它的發(fā)現(xiàn)和使用曾引起計算機的一場“革命”.這種材料可以按下列方法制備:
SiO2
①C
高溫
Si(粗)
②HCl
℃300
SiHCl3
③過量H2
1000℃~1100℃
Si(純)
寫出步驟①的化學方程式
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑

(2)磁性材料.這種材料一般含有鐵元素,鐵以化學性質活潑用途廣泛而著稱.其中在工業(yè)上常用于印刷電路板工業(yè),請寫出反應的離子方程式
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+

(3)激光材料.我國是激光技術先進的國家,紅寶石(Al2O3)是最早用于產(chǎn)生激光的材料,它是一種兩性氧化物,請用離子方程式加以說明:
Al2O3+6H+═2Al3++3H2O、Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O
Al2O3+6H+═2Al3++3H2O、Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O
;
(4)納米材料.膠體是一種物質以“納米”顆粒的形式分散到另一種物質里形成的分散系,區(qū)分膠體和溶液最經(jīng)典的方法是
丁達爾現(xiàn)象
丁達爾現(xiàn)象

(5)高分子材料.可以分成無機高分子材料和有機高分子材料.已知乙醇是有機高分子材料合成過程中的重要物質,請寫出工業(yè)上以乙烯為原料制乙醇的化學方程式
CH2=CH2+H20
催化劑
加熱
CH3CH2OH
CH2=CH2+H20
催化劑
加熱
CH3CH2OH

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是     ; NaOH溶液的出口為______ (填字母);精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母);干燥塔中使用的液體干燥劑是____(每空2分)。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質,必須精制后才能供電解使用。精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加人的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)、③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是     (2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產(chǎn)物有兩種,化學方程式為                          。也可轉化為而循環(huán)使用。一定條件下,在200C恒容密閉容器中發(fā)生反應: ,達平衡后,H2與SiHCL3物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ mol。

(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量,則該反應的熱化學方程式為:                                    。

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是     ; NaOH溶液的出口為______ (填字母);精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母);干燥塔中使用的液體干燥劑是____(每空2分)。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質,必須精制后才能供電解使用。精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加人的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)、③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是     (2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產(chǎn)物有兩種,化學方程式為                          (2分)。也可轉化為而循環(huán)使用。一定條件下,在200C恒容密閉容器中發(fā)生反應: ,達平衡后,H2與SiHCL3物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。

(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量,則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。

 

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。
(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是    ;NaOH溶液的出口為______(填字母);精制飽和食鹽水的進口為_____(填字母);干燥塔中使用的液體干燥劑是____(每空2分)。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質,必須精制后才能供電解使用。精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加人的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)、③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是    (2分)(填序號)。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產(chǎn)物有兩種,化學方程式為                         (2分)。也可轉化為而循環(huán)使用。一定條件下,在200C恒容密閉容器中發(fā)生反應:,達平衡后,H2與SiHCL3物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。
(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量,則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是     ; NaOH溶液的出口為______ (填字母);精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母);干燥塔中使用的液體干燥劑是____(每空2分)。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質,必須精制后才能供電解使用。精制時,粗鹽溶于水過濾后,還要加人的試劑分別為①Na2CO3、②HCl(鹽酸)、③BaCl2,這3種試劑添加的合理順序是     (2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產(chǎn)物有兩種,化學方程式為                          (2分)。也可轉化為而循環(huán)使用。一定條件下,在200C恒容密閉容器中發(fā)生反應: ,達平衡后,H2與SiHCL3物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。

(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量,則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。

 

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