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7.自來(lái)水是用適量氯氣殺菌消毒過(guò)的.不法商販常用自來(lái)水冒充純凈水謀取暴利.可用化學(xué)試劑鑒別真?zhèn)?該試劑可以是 A.酚酞試液 B.氯化鋇溶液 C.氫氧化鈉溶液 D.硝酸銀溶液 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

自來(lái)水是用適量氯氣殺菌消毒過(guò)的.不法商販常用自來(lái)水冒充純凈水謀取暴利,可用化學(xué)試劑鑒別真?zhèn)危撛噭┛梢允牵ā 。?/div>
A、酚酞試液B、氯化鋇溶液C、氫氧化鈉溶液D、硝酸銀溶液

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在自來(lái)水消毒和工業(yè)上砂糖、油脂的漂白與殺菌過(guò)程中,亞氯酸鈉(NaClO2)發(fā)揮著重要的作用。下圖是生產(chǎn)亞氯酸鈉的工藝流程圖:

已知:NaClO2的溶解度隨溫度升高而增大,適當(dāng)條件下可結(jié)晶析出NaClO2·3H2O;

??? 常溫下,Ksp(FeS)=63×10-18Ksp(CuS)=63×10-28;Ksp(PbS)=24 ×10-28

1)反應(yīng)I中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為??????

2)從濾液中得到NaClO2·3H2O晶體的所需操作依次是?????? (填寫(xiě)序號(hào))。

a.蒸餾 ?? b.蒸發(fā)濃縮?? c.過(guò)濾 ?? d.冷卻結(jié)晶??? e.灼燒

3)印染工業(yè)常用亞氯酸鈉(NaClO2)漂白織物,漂白織物時(shí)真正起作用的是HClO2。下表是25時(shí)HClO2及幾種常見(jiàn)弱酸的電離平衡常數(shù):

弱酸

HClO2

HF

H2CO3

H2S

Kamol·L-1

1×10-2

6.3×10-4

K1=4.30×10-7

K2=5.60×10-11

K1=9.1×10-8

K2=l.1×10-12

 

常溫下,物質(zhì)的量濃度相等的NaClO2、NaF、NaHCO3、Na2S四種溶液的pH由大到小的順序?yàn)?/span>??????? (用化學(xué)式表示);體積相等,物質(zhì)的量濃度相同的NaFNaClO2兩溶液中所含陰陽(yáng)離子總數(shù)的大小關(guān)系為:?????????????? (前者大”“相等后者大”)。

Na2S是常用的沉淀劑。某工業(yè)污水中含有等濃度的Cu2+、Fe2+、Pb2+離子,滴加Na2S溶液后首先析出的沉淀是???????? ;常溫下,當(dāng)最后一種離子沉淀完全時(shí)(該離子濃度為10-5mol·L-1)此時(shí)體系中的S2-的濃度為?????????? 。

4裝置中生成氣體a的電極反應(yīng)式?????????? ,若生成氣體a的體積為112L(標(biāo)準(zhǔn)狀況),則轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為??? 。

 

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在自來(lái)水消毒和工業(yè)上砂糖、油脂的漂白與殺菌過(guò)程中,亞氯酸鈉(NaClO2)發(fā)揮著重要的作用。下圖是生產(chǎn)亞氯酸鈉的工藝流程圖:

已知:①NaClO2的溶解度隨溫度升高而增大,適當(dāng)條件下可結(jié)晶析出
NaClO2·3H2O;
②常溫下,Ksp(FeS)=6.3×10-18;Ksp(CuS)=6.3×10-28;Ksp(PbS)=2.4 ×10-28
(1)反應(yīng)I中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為      
(2)從濾液中得到NaClO2·3H2O晶體的所需操作依次是      (填寫(xiě)序號(hào))。
a.蒸餾   b.蒸發(fā)濃縮   c.過(guò)濾   d.冷卻結(jié)晶    e.灼燒
(3)印染工業(yè)常用亞氯酸鈉(NaClO2)漂白織物,漂白織物時(shí)真正起作用的是HClO2。下表是25℃時(shí)HClO2及幾種常見(jiàn)弱酸的電離平衡常數(shù):

弱酸
HClO2
HF
H2CO3
H2S
Ka/mol·L-1
1×10-2
6.3×10-4
K1=4.30×10-7
K2=5.60×10-11
K1=9.1×10-8
K2=l.1×10-12
 ①常溫下,物質(zhì)的量濃度相等的NaClO2、NaF、NaHCO3、Na2S四種溶液的pH由大到小的順序?yàn)?u>        (用化學(xué)式表示);體積相等,物質(zhì)的量濃度相同的NaF、NaClO2兩溶液中所含陰陽(yáng)離子總數(shù)的大小關(guān)系為:              (填“前者大”“相等”或“后者大”)。
②Na2S是常用的沉淀劑。某工業(yè)污水中含有等濃度的Cu2+、Fe2+、Pb2+離子,滴加Na2S溶液后首先析出的沉淀是        ;常溫下,當(dāng)最后一種離子沉淀完全時(shí)(該離子濃度為10-5mol·L-1)此時(shí)體系中的S2-的濃度為          。
(4)Ⅲ裝置中生成氣體a的電極反應(yīng)式          ,若生成氣體a的體積為1.12L(標(biāo)準(zhǔn)狀況),則轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為   。

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在自來(lái)水消毒和工業(yè)上砂糖、油脂的漂白與殺菌過(guò)程中,亞氯酸鈉(NaClO2)發(fā)揮著重要的作用。下圖是生產(chǎn)亞氯酸鈉的工藝流程圖:

已知:①NaClO2的溶解度隨溫度升高而增大,適當(dāng)條件下可結(jié)晶析出NaClO2·3H2O;
②常溫下,Ksp(FeS)=6.3×10-18;Ksp(CuS)=6.3×10-28;Ksp(PbS)=2.4 ×10-28
(1)反應(yīng)I中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為      。
(2)從濾液中得到NaClO2·3H2O晶體的所需操作依次是      (填寫(xiě)序號(hào))。
a.蒸餾     b.蒸發(fā)濃縮    c.過(guò)濾     d.冷卻結(jié)晶    e.灼燒
(3)印染工業(yè)常用亞氯酸鈉(NaClO2)漂白織物,漂白織物時(shí)真正起作用的是HClO2。下表是25℃時(shí)HClO2及幾種常見(jiàn)弱酸的電離平衡常數(shù):

弱酸
HClO2
HF
H2CO3
H2S
Ka/mol·L-1
1×10-2
6.3×10-4
K1=4.30×10-7
K2=5.60×10-11
K1=9.1×10-8
K2=l.1×10-12
 
①常溫下,物質(zhì)的量濃度相等的NaClO2、NaF、NaHCO3、Na2S四種溶液的pH由大到小的順序?yàn)?u>        (用化學(xué)式表示);體積相等,物質(zhì)的量濃度相同的NaF、NaClO2兩溶液中所含陰陽(yáng)離子總數(shù)的大小關(guān)系為:               (填“前者大”“相等”或“后者大”)。
②Na2S是常用的沉淀劑。某工業(yè)污水中含有等濃度的Cu2+、Fe2+、Pb2+離子,滴加Na2S溶液后首先析出的沉淀是        ;常溫下,當(dāng)最后一種離子沉淀完全時(shí)(該離子濃度為10-5mol·L-1)此時(shí)體系中的S2-的濃度為          。
(4)Ⅲ裝置中生成氣體a的電極反應(yīng)式          ,若生成氣體a的體積為1.12L(標(biāo)準(zhǔn)狀況),則轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為   

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在自來(lái)水消毒和工業(yè)上砂糖、油脂的漂白與殺菌過(guò)程中,亞氯酸鈉(NaClO2)發(fā)揮著重要的作用。下圖是生產(chǎn)亞氯酸鈉的工藝流程圖:

已知:①NaClO2的溶解度隨溫度升高而增大,適當(dāng)條件下可結(jié)晶析出
NaClO2·3H2O;
②常溫下,Ksp(FeS)=6.3×10-18;Ksp(CuS)=6.3×10-28;Ksp(PbS)=2.4 ×10-28
(1)反應(yīng)I中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為      。
(2)從濾液中得到NaClO2·3H2O晶體的所需操作依次是      (填寫(xiě)序號(hào))。
a.蒸餾   b.蒸發(fā)濃縮   c.過(guò)濾   d.冷卻結(jié)晶    e.灼燒
(3)印染工業(yè)常用亞氯酸鈉(NaClO2)漂白織物,漂白織物時(shí)真正起作用的是HClO2。下表是25℃時(shí)HClO2及幾種常見(jiàn)弱酸的電離平衡常數(shù):
弱酸
HClO2
HF
H2CO3
H2S
Ka/mol·L-1
1×10-2
6.3×10-4
K1=4.30×10-7
K2=5.60×10-11
K1=9.1×10-8
K2=l.1×10-12
 ①常溫下,物質(zhì)的量濃度相等的NaClO2、NaF、NaHCO3、Na2S四種溶液的pH由大到小的順序?yàn)?u>        (用化學(xué)式表示);體積相等,物質(zhì)的量濃度相同的NaF、NaClO2兩溶液中所含陰陽(yáng)離子總數(shù)的大小關(guān)系為:              (填“前者大”“相等”或“后者大”)。
②Na2S是常用的沉淀劑。某工業(yè)污水中含有等濃度的Cu2+、Fe2+、Pb2+離子,滴加Na2S溶液后首先析出的沉淀是        ;常溫下,當(dāng)最后一種離子沉淀完全時(shí)(該離子濃度為10-5mol·L-1)此時(shí)體系中的S2-的濃度為          。
(4)Ⅲ裝置中生成氣體a的電極反應(yīng)式          ,若生成氣體a的體積為1.12L(標(biāo)準(zhǔn)狀況),則轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為   

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