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幾種常見(jiàn)晶體的物理性質(zhì)見(jiàn)下表，請(qǐng)完成表中空格

晶 體	氯化鈉	氯化鋇	金剛石	二氧化硅	硫	白磷	鈉	鎢
熔點(diǎn) 0C	801	1560	3550	1723	112.8	44.1	97.8	3410
硬 度	較 硬	較 硬	很 硬	硬 脆	脆	軟	柔 軟	硬
晶體類 型

（1）金剛石的同素異形體是
（2）上述晶體中熔化成液態(tài)時(shí)無(wú)需破壞化學(xué)鍵的是，從熔點(diǎn)、硬度看規(guī)律性最差的是，晶體中存在分子的是（本小題各空勻填寫(xiě)晶體類別）
（3）金剛石和二氧化硅硬度大、熔點(diǎn)高的主要是因?yàn)榫�體中的原子以共價(jià)鍵結(jié)合成．二氧化硅和二氧化碳都是ⅣA族元素的氧化物但它們的物理性質(zhì)相差很大，這主要是因?yàn)樗鼈兊?!--BA-->不同．由分子構(gòu)成的物質(zhì)，影響其熔沸點(diǎn)和溶解度的重要因素之一是．

幾種常見(jiàn)晶體的物理性質(zhì)見(jiàn)下表，請(qǐng)完成表中空格

晶 體	氯化鈉	氯化鋇	金剛石	二氧化硅	硫	白磷	鈉	鎢
熔點(diǎn) 0C	801	1560	3550	1723	112.8	44.1	97.8	3410
硬 度	較 硬	較 硬	很 硬	硬 脆	脆	軟	柔 軟	硬
晶體類 型

（1）金剛石的同素異形體是______
（2）上述晶體中熔化成液態(tài)時(shí)無(wú)需破壞化學(xué)鍵的是______，從熔點(diǎn)、硬度看規(guī)律性最差的是______，晶體中存在分子的是______（本小題各空勻填寫(xiě)晶體類別）
（3）金剛石和二氧化硅硬度大、熔點(diǎn)高的主要是因?yàn)榫�體中的原子以共價(jià)鍵結(jié)合成______．二氧化硅和二氧化碳都是ⅣA族元素的氧化物但它們的物理性質(zhì)相差很大，這主要是因?yàn)樗鼈兊腳_____不同．由分子構(gòu)成的物質(zhì)，影響其熔沸點(diǎn)和溶解度的重要因素之一是______．

幾種常見(jiàn)晶體的物理性質(zhì)見(jiàn)下表，請(qǐng)完成表中空格

晶 體	氯化鈉	氯化鋇	金剛石	二氧化硅	硫	白磷	鈉	鎢
熔點(diǎn) 0C	801	1560	3550	1723	112.8	44.1	97.8	3410
硬 度	較 硬	較 硬	很 硬	硬 脆	脆	軟	柔 軟	硬
晶體類 型

（1）金剛石的同素異形體是______
（2）上述晶體中熔化成液態(tài)時(shí)無(wú)需破壞化學(xué)鍵的是______，從熔點(diǎn)、硬度看規(guī)律性最差的是______，晶體中存在分子的是______（本小題各空勻填寫(xiě)晶體類別）
（3）金剛石和二氧化硅硬度大、熔點(diǎn)高的主要是因?yàn)榫�體中的原子以共價(jià)鍵結(jié)合成______．二氧化硅和二氧化碳都是ⅣA族元素的氧化物但它們的物理性質(zhì)相差很大，這主要是因?yàn)樗鼈兊腳_____不同．由分子構(gòu)成的物質(zhì)，影響其熔沸點(diǎn)和溶解度的重要因素之一是______．

[化學(xué)-選修3：物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)]
硅是重要的半導(dǎo)體材料，構(gòu)成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ)．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號(hào)為，該能層具有的原子軌道數(shù)為、電子數(shù)為．
（2）硅主要以硅酸鹽、等化合物的形式存在于地殼中．
（3）單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構(gòu)類似的晶體，其中原子與原子之間以相結(jié)合，其晶胞中共有8個(gè)原子，其中在面心位置貢獻(xiàn)個(gè)原子．
（4）單質(zhì)硅可通過(guò)甲硅烷（SiH₄）分解反應(yīng)來(lái)制備．工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質(zhì)中反應(yīng)制得SiH₄，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為．
（5）碳和硅的有關(guān)化學(xué)鍵鍵能如下所示，簡(jiǎn)要分析和解釋下列有關(guān)事實(shí)：

化學(xué)鍵	C-C	C-H	C-O	Si-Si	Si-H	Si-O
鍵能/（kJ?mol-1）	356	413	336	226	318	452

①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠(yuǎn)不如烷烴多，原因是．
②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是．
（6）在硅酸鹽中，SiO

4- 4

四面體（如下圖（a））通過(guò)共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結(jié)構(gòu)型式．圖（b）為一種無(wú)限長(zhǎng)單鏈結(jié)構(gòu)的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為，Si與O的原子數(shù)之比為，化學(xué)式為．