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從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料。請回答―下列問題：

(1)地殼里各種元素的含量（質(zhì)量分數(shù))如右圖所示，其中表示硅元素的是         (填字母)。

(2)根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質(zhì)      (選瑣“活潑”、“不活潑”)。

(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

    ①整個制備過程必須達到無水無氧。在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂ ，可能引起的后果是                                                         。

②在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學式是         ；在生產(chǎn)過程中還有一種可循環(huán)使用的物質(zhì)是              。

從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料。請回答—下列問題：

(1)地殼里各種元素的含量（質(zhì)量分數(shù))如右圖所示，其中表示硅元素的是         (填字母)。

(2)根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質(zhì)      (選瑣“活潑”、

“不活潑”)。

(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

    ①整個制備過程必須達到無水無氧。在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂ ，可能引起的后果是                                                         。

②在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學式是         ；在生產(chǎn)過程中還有一種可循環(huán)使用的物質(zhì)是              。

從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料。請回答—下列問題：

(1)地殼里各種元素的含量（質(zhì)量分數(shù))如右圖所示，其中表示硅元素的是         (填字母)。

(2)根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質(zhì)      (選瑣“活潑”、

“不活潑”)。

(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

    ①整個制備過程必須達到無水無氧。在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂ ，可能引起的后果是                                                         。

    ②在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學式是         ；在生產(chǎn)過程中還有一種可循環(huán)使用的物質(zhì)是              。

從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料。請回答—下列問題：

(1)地殼里各種元素的含量（質(zhì)量分數(shù))如右圖所示，其中表示硅元素的是         (填字母)。

(2)根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質(zhì)      (選瑣“活潑”、

“不活潑”)。

(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

 

①整個制備過程必須達到無水無氧。在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂ ，可能引起的后果是                 。

②在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學式是         ；在生產(chǎn)過程中還有一種可循環(huán)使用的物質(zhì)是              。

從20世紀中葉開始，硅成了信息技術的關鍵材料，是目前應用最多的半導體材料．請回答-下列問題：
（1）地殼里各種元素的含量（質(zhì)量分數(shù)）如右圖所示，其中表示硅元素的是（填字母）．

（2）根據(jù)元素周期表可知，原子序數(shù)為6的碳原子和原子序數(shù)為14的硅原子最外層電子數(shù)均為4，則常溫下硅的化學性質(zhì)（選填“活潑”、“不活潑”）．
（3）制備硅半導體材料必須先得到高純硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意如下：

①整個制備過程必須達到無水無氧．在H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是
②由粗硅制取三氯甲硅烷的化學方程式為．
③在生產(chǎn)過程中物質(zhì)A可循環(huán)使用，A的化學式是；在生產(chǎn)過程中還有一種可循環(huán)使用的物質(zhì)是．