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如圖所示，一水平方向足夠長(zhǎng)的傳送帶以恒定的速度v₁沿順時(shí)針?lè)较蜻\(yùn)動(dòng)，一物體以水平速度v₂從右端滑上傳送帶后，經(jīng)過(guò)一段時(shí)間又返回光滑水平面，此時(shí)速率為，則下列說(shuō)法正確的是

若v₁＜v₂，則＝v₁

若v₁＞v₂，則＝v₂

不管v₂多大，總有＝v₂

只有v₁＝v₂時(shí)，才有＝v₂

激光散斑測(cè)速是一種嶄新的測(cè)速技術(shù)，它應(yīng)用了光的干涉原理．用二次曝光照相所獲得的“散斑對(duì)”相當(dāng)于雙縫干涉實(shí)驗(yàn)中的雙縫，待測(cè)物體的速度v與二次曝光時(shí)間間隔Δt的乘積等于雙縫間距．實(shí)驗(yàn)中可測(cè)得二次曝光時(shí)間間隔Δt、雙縫到屏之距離l以及相鄰兩條亮紋間距Δx．若所用激光波長(zhǎng)為λ，則該實(shí)驗(yàn)確定物體運(yùn)動(dòng)速度的表達(dá)式是：

v＝

v＝

v＝

v＝

一束細(xì)平行光經(jīng)過(guò)玻璃三棱鏡后分解為互相分離的三束光(如圖所示)，分別照射到相同的金屬板a、b、c上，如圖所示，已知金屬板b有光電子放出，則可知：

板a一定不放出光電子

板a一定放出光電子

板c一定不放出光電子

板c一定放出光電子

如圖所示，一導(dǎo)線彎成半徑為a的半圓形閉合回路．虛線MN右側(cè)有磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場(chǎng)．方向垂直于回路所在的平面．回路以速度v向右勻速進(jìn)入磁場(chǎng)，直徑CD始絡(luò)與MN垂直．從D點(diǎn)到達(dá)邊界開始到C點(diǎn)進(jìn)入磁場(chǎng)為止，下列結(jié)論正確的是

感應(yīng)電流方向不變

CD段直線始終不受安培力

感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)最大值E＝Bav

感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)平均值＝πBav

下圖中虛線為勻強(qiáng)電場(chǎng)中與場(chǎng)強(qiáng)方向垂直的等間距平行直線．兩粒子M、N質(zhì)量相等，所帶電荷的絕對(duì)值也相等．現(xiàn)將M、N從虛線上的O點(diǎn)以相同速率射出，兩粒子在電場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)的軌跡分別如圖中兩條實(shí)線所示．點(diǎn)a、b、c為實(shí)線與虛線的交點(diǎn)，已知O點(diǎn)電勢(shì)高于c點(diǎn)．若不計(jì)重力，則

M帶負(fù)電荷，N帶正電荷

N在a點(diǎn)的速度與M在c點(diǎn)的速度大小相同

N在從O點(diǎn)運(yùn)動(dòng)至a點(diǎn)的過(guò)程中克服電場(chǎng)力做功

M在從O點(diǎn)運(yùn)動(dòng)至b點(diǎn)的過(guò)程中，電場(chǎng)力對(duì)它做的功等于零

近地人造衛(wèi)星1和2繞地球做勻速圓周運(yùn)動(dòng)的周期分別為T₁和T₂，設(shè)在衛(wèi)星1、衛(wèi)星2各自所在的高度上的重力加速度大小分別為g₁、g₂，則

＝()^4/3

＝()^4/3

＝()²

＝()²

一列簡(jiǎn)諧橫波在某一時(shí)刻的波形圖如圖所示，圖中P、Q兩質(zhì)點(diǎn)的橫坐標(biāo)分別為x＝1.5 m和x＝4.5 m．P點(diǎn)的振動(dòng)圖像如圖所示．在下列四幅圖中，Q點(diǎn)的振動(dòng)圖像可能是

如圖，水平放置的密封氣缸內(nèi)的氣體被一豎直隔板分隔為左右兩部分，隔板可在氣缸內(nèi)無(wú)摩擦滑動(dòng)，右側(cè)氣體內(nèi)有一電熱絲．氣缸壁和隔板均絕熱．初始時(shí)隔板靜止，左右兩邊氣體溫度相等．現(xiàn)給電熱絲提供一微弱電流，通電一段時(shí)間后切斷電源．當(dāng)缸內(nèi)氣體再次達(dá)到平衡時(shí)，與初始狀態(tài)相比

右邊氣體溫度升高，左邊氣體溫度不變

左右兩邊氣體溫度都升高

左邊氣體壓強(qiáng)增大

右邊氣體內(nèi)能的增加量等于電熱絲放出的熱量

如圖所示，足夠長(zhǎng)的傳送帶與水平面夾角為，以速度v₀逆時(shí)針勻速轉(zhuǎn)動(dòng)．在傳送帶的上端輕輕放置一個(gè)質(zhì)量為m的小木塊，則圖中能地反映小木塊的速度隨時(shí)間變化關(guān)系的是

如圖所示，一個(gè)豎直放置在地面上的長(zhǎng)方形框架，其質(zhì)量為M，輕質(zhì)彈簧將兩個(gè)小物塊P和Q頂在框架的上、下兩端，P、Q的質(zhì)量均為m，而此時(shí)P對(duì)頂板的壓力為0.5 mg，則

此時(shí)Q對(duì)底板的壓力為1.5 mg

此時(shí)框架對(duì)地面的壓力為Mg－0.5 mg

若整個(gè)裝置做自由落體運(yùn)動(dòng)，P和Q對(duì)框架的壓力均為1.5 mg

若整個(gè)裝置做自由落體運(yùn)動(dòng)，P和Q對(duì)框架的壓力均為零