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云室處在磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場(chǎng)中，一靜止質(zhì)量為m₁，的原子核在云室中發(fā)生一次a衰變a粒子的質(zhì)量為m₂，電量為q，其運(yùn)動(dòng)軌跡在與磁垂直的平面內(nèi)．現(xiàn)測(cè)得a粒子的運(yùn)動(dòng)軌道半徑R，試求在衰變過(guò)程中的質(zhì)量虧損．（涉及動(dòng)量問(wèn)題時(shí)，虧損的質(zhì)量可忽略不計(jì)）

分別用λ和3λ/4的單色光照射同一金屬，發(fā)出的光電子的最大初動(dòng)能之比為1∶2.以h表示普朗克常量，c表示真空中的光速，則此金屬板的逸出功是多大？

利用金屬晶格（大小約10^-10m）作為障礙物觀察電子的衍射圖樣，方法是讓電子通過(guò)電場(chǎng)加速，然后讓電子束照射到金屬晶格上，從而得到電子的衍射圖樣。已知電子質(zhì)量為m、電量為e、初速度為零，加速電壓為U，普朗克常量為h，則下列說(shuō)法中正確的是 (  )

A．該實(shí)驗(yàn)說(shuō)明電子具有波動(dòng)性

B．實(shí)驗(yàn)中電子束的德布羅意波長(zhǎng)為λ=h/

C．加速電壓U越大，電子的衍射現(xiàn)象越不明顯      

D．若用相同動(dòng)能的質(zhì)子代替電子，衍射現(xiàn)象將更加明顯

貧鈾炸彈是一種殺傷力很強(qiáng)的武器，貧鈾是提煉鈾235以后的副產(chǎn)品，其主要成分為鈾238，貧鈾炸彈不僅有很強(qiáng)的穿甲能力，而且鈾238具有放射性，殘留物可長(zhǎng)期對(duì)環(huán)境起破壞作用而造成污染．人長(zhǎng)期生活在該環(huán)境中會(huì)受到核輻射而患上皮膚癌和白血病．下列結(jié)確的是    （  ）

A．鈾238的衰變方程式為：

B．和互為同位素

C．人患皮膚癌和白血病是因?yàn)楹溯椛鋵?dǎo)致了基因突變

D．貧鈾彈的穿甲能力很強(qiáng)，也是因?yàn)樗�的放射�?/p>

如圖所示，兩個(gè)相切的圓表示一個(gè)靜止的原子核發(fā)生某種核反應(yīng)后產(chǎn)生的兩種粒子在勻強(qiáng)磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)軌跡，可以判定   （  ）

A．原子核只可能發(fā)生β衰變    B．原子核可能發(fā)生α衰變或β衰變

C．原子核放出一個(gè)正電子      D．原子核放出一個(gè)中子

下列說(shuō)法正確的是     （  ）

A．α射線和γ射線都是電磁波

B．β射線是原子的核外電子電離后形成的電子流

C．用加溫、加壓或改變其化學(xué)狀態(tài)的方法都不能改變?cè)�子核衰變的半衰�?/p>

D．原子核經(jīng)過(guò)衰變生成新核，則新核的總質(zhì)量總小于原核的質(zhì)量

中共中央、國(guó)務(wù)院、中央軍委隆重表彰了為研制“兩彈一星”作出突出貢獻(xiàn)的科學(xué)家．下列核反應(yīng)方程中屬于研究“兩彈”的基本核反應(yīng)方程式是（  ）

A．         B．

C．          D．

關(guān)于核力，以下說(shuō)法正確的是（   ）

A．核力的本質(zhì)是電磁力

B．核力只存在于質(zhì)子和質(zhì)子間，中子和中子間，且只在2×10 ^-15m內(nèi)起作用

C．每個(gè)核子只跟它鄰近的核子間存在核力作用

D．核力存在于原子核內(nèi)所有核子之間

靜止在勻強(qiáng)磁場(chǎng)中的某放射性元素的原子核，沿垂直于磁場(chǎng)方向放射出一個(gè)粒子后得到兩個(gè)圓形軌跡，經(jīng)測(cè)量軌跡半徑之比為42︰1，則（  ）

A．反沖核的核電荷數(shù)與粒子電荷數(shù)的比為42︰1

B．反沖核的速率與粒子速率的比為1︰42

C．反沖核的質(zhì)量與粒子的質(zhì)量比為42︰1

D反沖核運(yùn)動(dòng)的周期與粒子的運(yùn)動(dòng)周期比為1︰42

在驗(yàn)證光的波粒二象性的實(shí)驗(yàn)中，下列說(shuō)法正確的是      （  ）

A．使光子一個(gè)一個(gè)地通過(guò)單縫，如果時(shí)間足夠長(zhǎng)，底片上會(huì)出現(xiàn)衍射圖樣

B．單個(gè)光子通過(guò)單縫后，底片上會(huì)出現(xiàn)完整的衍射圖樣

C．光子通過(guò)單縫的運(yùn)動(dòng)路線像水波一樣起伏

D．單個(gè)光子通過(guò)單縫后打在底片的情況呈現(xiàn)出隨機(jī)性，大量光子通過(guò)單縫后打在底片上的情況呈現(xiàn)出規(guī)律性