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| A、用SO2漂白紙漿和草帽辮 | B、用氯化鐵溶液腐蝕印刷線路板上的銅膜 | C、用犧牲陽極的陰極保護法防止金屬被腐蝕 | D、高溫下用焦炭還原SiO2制取粗硅 |
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| A、當a=3時,e=2 | B、反應中既可用稀硫酸又可用濃硝酸酸化 | C、若產生11 g氣體物質,則有6.02×1023個電子發(fā)生轉移 | D、反應計量數b、c、e有如下關系:3e=2b+c |
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| A、滴加KI溶液時,KI被氧化,CuI是還原產物 | B、通入SO2后,溶液變無色,體現SO2的還原性 | C、整個過程發(fā)生了復分解反應和氧化還原反應 | D、上述實驗條件下,物質的氧化性:Cu2+>I2>SO2 |
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| A、H+表現氧化性 | B、發(fā)生還原反應的是H2C2O4 | C、3 mol H+參加反應時,轉移電子的物質的量為5 mol | D、該離子方程式右側方框內的產物是OH- |
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| A、KClO3在反應中被氧化為ClO2 |
| B、該反應的還原產物為CO2 |
| C、H2SO4在反應中是氧化劑 |
| D、0.5 mol H2C2O4參加反應有1 mol電子轉移 |
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| A、反應①中Sb元素被氧化,反應②中Sb元素被還原 |
| B、CO中元素電負性:C>O |
| C、每生成4mol Sb時,消耗67.2L O2 |
| D、反應②說明高溫下C的還原性比Sb強 |
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| A、CuI在反應中失去電子 | B、Cu2HgI4中Cu元素的化合價為+2 | C、CuI是氧化劑 | D、1mol CuI參與反應有1mol電子轉移 |
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| A、由1 mol CuFeS2生成1mol Cu,共消耗2.75 molO2 | B、該冶煉方法中產生大量的有害氣體SO2,可回收用于制備硫酸 | C、在反應③中,Cu2S既是氧化劑,又是還原劑 | D、在反應①中,SO2既是氧化產物,又是還原產物 |
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| A、100mL的鹽酸中HCl物質的量濃度為7.5mol/L | B、生成的H2S氣體在標準狀況下的體積為2.24L | C、該磁黃鐵礦中FexS的x=0.85 | D、該磁黃鐵礦FexS中,Fe2+與Fe3+的物質的量之比為3:1 |
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| A、鈰的冶煉步驟為:用稀土串級萃取法對礦石進行篩選富集;電解熔融CeO2 | ||||||||
| B、CeO2溶于氫碘酸的化學方程式可表示為:CeO2+4HI=CeI4+2H2O | ||||||||
| C、用Ce(SO4)2溶液滴定硫酸亞鐵溶液,其離子方程式為:Ce4++Fe2+=Ce3++Fe3+ | ||||||||
D、四種穩(wěn)定的核素
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