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科目: 來(lái)源: 題型:

下列除去少量雜質(zhì)所用試劑和方法均正確的是(  )
序號(hào) 物質(zhì) 雜質(zhì) 試劑 主要操作
A KCl FeCl3 NaOH溶液 過(guò)濾
B CO2 CO O2 點(diǎn)燃
C 氯氣 濃硫酸 洗氣
D 乙醇 蒸餾
A、AB、BC、CD、D

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科目: 來(lái)源: 題型:

為提純下列物質(zhì)(括號(hào)內(nèi)的物質(zhì)是雜質(zhì)),所選用的除雜試劑和分離方法都正確的是( 。
物質(zhì) 雜質(zhì) 試劑 主要操作
A 乙烷 乙烯 H2 加熱
B Na2CO3溶液 NaHCO3 ---- 加熱
C Fe Al 氫氧化鈉溶液 過(guò)濾
D 乙酸乙酯 乙酸 氫氧化鈉溶液 分液
A、AB、BC、CD、D

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科目: 來(lái)源: 題型:

電子工業(yè)中常用FeCl3溶液腐蝕印刷電路板,欲從腐蝕后的廢液中回收Cu及制取純凈的FeCl3溶液,需要下列試劑:①蒸餾水、②鐵粉、③濃H2SO4、④濃鹽酸、⑤燒堿、⑥濃氨水、⑦Cl2中的( 。
A、①②④⑦B、①③④⑥C、②④⑥⑦D、①④⑥⑦

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科目: 來(lái)源: 題型:

除去乙烷中少量乙烯的最好方法是( 。
A、通過(guò)足量的溴的四氯化碳溶液B、通過(guò)足量的溴水C、先通過(guò)足量的酸性高錳酸鉀溶液,再通過(guò)堿石灰D、催化加氫

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列除雜質(zhì)選用的試劑和主要操作都正確的是( 。
物質(zhì) 雜質(zhì) 試劑 主要操作
A SiO2 CaCO3 鹽酸 過(guò)濾
B NaHCO3 Na2CO3 鹽酸 加熱
C Fe Al 氫氧化鈉 分液
D Fe(NO32 Ba(NO32 硫酸 過(guò)濾
A、AB、BC、CD、D

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科目: 來(lái)源: 題型:

為提純下列物質(zhì)(括號(hào)內(nèi)為雜質(zhì))所選用的試劑和分離方法均正確的是(  )
選項(xiàng) 物質(zhì) 除雜試劑 分離方法
A. 溴乙烷(乙醇) 分液
B. 氯化銨溶液(氯化鐵) 氫氧化鈉溶液 過(guò)濾
C. 硝酸銅溶液(硝酸銀) 銅粉 結(jié)晶
D. 二氧化碳(二氧化硫) 飽和碳酸鈉溶液 洗氣
A、AB、BC、CD、D

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科目: 來(lái)源: 題型:

已知NH3分子可與Cu2+形成配合物離子[Cu(NH34]2+,則除去硫酸銅溶液中少量硫酸可選用的試劑是( 。
A、NaOHB、NH3C、BaCl2D、Cu(OH)2

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科目: 來(lái)源: 題型:

為提純下列物質(zhì)(括號(hào)內(nèi)為雜質(zhì)),所用的除雜試劑和分離方法都正確的是( 。
序號(hào) 不純物 除雜試劑 分離方法
A CH4(C2H4 酸性KMnO4溶液 洗氣
B Fe2O3(Al2O3 NaOH溶液 過(guò)濾
C CO2(HCl) NaOH溶液 洗氣
D NaCl (Na2CO3 稀硫酸 蒸發(fā)結(jié)晶
A、AB、BC、CD、D

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科目: 來(lái)源: 題型:

欲除去Na2CO3固體中的NaHCO3雜質(zhì),可采取的方法是( 。
A、加水溶解后過(guò)濾B、配成溶液后通入足量的CO2氣體C、將固體加熱D、先加足量鹽酸后過(guò)濾

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科目: 來(lái)源: 題型:

如表除去雜質(zhì)(括號(hào)內(nèi)的物質(zhì)是雜質(zhì))時(shí),選用的試劑或方法正確的是( 。
A B C D
試樣 NaCl溶液(Na2CO3 NH4Cl固體(I2 CO2(SO2 NaBr溶液(Br2
除雜試劑
或方法
澄清石灰水 加熱 NaOH溶液 用CCl4萃取、
分液
A、AB、BC、CD、D

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同步練習(xí)冊(cè)答案