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在無色透明的溶液中，可以大量共存的離子是（　�。�

下列說法正確的是（　�。�

下列說法中正確的是（N_A表示阿伏加德羅常數(shù)）（　�。�

膠體區(qū)別于溶液最本質的特征是（　�。�

10g 10%的氫氧化鈉溶液稀釋成50mL，所得氫氧化鈉溶液的物質的量濃度為（　　）

下列溶液中含Cl^-濃度最大的是（　�。�

下列離子方程式正確的是（　�。�

（2013?房山區(qū)一模）某黃銅礦樣品標注顯示：主要成分為CuFeS₂（含81.5%），其余多為脈石（SiO₂）．為檢驗該黃銅礦的純度是否與標注一致，設計了如下實驗：

已知：①在空氣存在下煅燒黃銅礦，生成Cu、Fe₃O₄和SO₂氣體．②亞硫酸易被氧化：2H₂SO₃+O₂=2H₂SO₄
請回答下列問題：
（1）檢驗裝置氣密性后，稱取研細的黃銅礦樣品1.150g，放入硬質玻璃管中，研細的目的是．
（2）通入空氣一段時間后，點燃酒精噴燈加熱樣品，充分反應，裝置B、裝置C中反應的化學方程式分別是、．
（3）反應過程中，裝置A的作用是（填序號）．
①除去空氣中的二氧化碳       ②除去空氣中的水蒸氣　　　�、凼箍諝獬煞志鶆蚧旌�         ④用于觀察、控制空氣流速
（4）反應結束前的操作是：先撤掉酒精噴燈，再，其目的是．
（5）取裝置C中溶液的1/10置于錐形瓶中，用0.05mol?L^-1標準碘溶液進行滴定，反應的離子方程式為；判斷滴定達到終點的現(xiàn)象是；若滴定中消耗標準碘溶液20.00mL，則該黃銅礦的純度測定結果比標注值（偏低或偏高），造成該結果的原因之一可能是，改進的建議是．

（2013?房山區(qū)一模）短周期元素A、B、C、D在周期表中的位置如圖所示，B、D最外層電子數(shù)之和為12，二者可形成DB₂、DB₃兩種分子，DB₂具有漂白性．

	A	B
C		D

回答下列問題：
（1）A的氫化物的電子式是
（2）下列敘述中，正確的是（填字母）
a．穩(wěn)定性：A的氫化物＞C的氫化物
b．還原性：B^2-＞D^2-
C．酸性：H₄CO₄＞H₂DO₄
d．最高化合價值：D=B＞A＞C
（3）DB₂通過下列工藝流程可制化工業(yè)原料H₂DB₄和清潔能源H₂．
①為摸清電解情況查得：

化學鍵	H-H	Br-Br	H-Br
能量（kJ/mol）	436	194	362

試寫出通常條件下電解槽中發(fā)生總反應的熱化學方程式：
②根據(jù)資料：

化學式	Ag2SO4	AgBr
溶解度（g）	0.796	8.4×10-6

為檢驗分離器的分離效果，取分離后的H₂DB₄溶液于試管，向其中逐滴加入AgNO₃溶液至充分反應，若觀察到，證明分離效果較好．
③在原電池中，負極發(fā)生的反應式為．
④在電解過程中，電解槽陰極附近溶液pH（填“變大”、“變小”或“不變”）．
⑤將該工藝流程用總反應的化學方程式表示為：．該生產工藝的優(yōu)點有（答一點即可）；缺點有（答一點即可）．

（2013?房山區(qū)一模）碳化硅（SiC）、氧化鋁（Al₂O₃） 和氮化硅（Si₃N₄）是優(yōu)良的高溫結構陶瓷，在工業(yè)生產和科技領域有重要用途．
（1）Al的原子結構示意圖為；Al與NaOH溶液反應的離子方程式為．
（2）氮化硅抗腐蝕能力很強，但易被氫氟酸腐蝕，氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽，其反應方程式為．
（3）工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅，其反應如下：
3SiCl₄（g）+2N₂（g）+6H₂（g）

高溫

Si₃N₄（s）+12HCl（g）△H＜0
某溫度和壓強條件下，分別將0.3mol SiCl₄（g）、0.2mol N₂（g）、0.6mol H₂（g）充入2L密閉容器內，進行上述反應，5min達到平衡狀態(tài)，所得Si₃N₄（s）的質量是5.60g．
①H₂的平均反應速率是 mol/（L?min）．
②平衡時容器內N₂的濃度是mol?L^-1．
③SiCl₄（g）的轉化率是．
④若按n（SiCl₄）：n（N₂）：n（H₂）=3：2：6的投料配比，向上述容器不斷擴大加料，SiCl₄（g）的轉化率應（填“增大”、“減”或“不變”）．
⑤在不改變反應條件的情況下，為了提高SiCl₄（g）的轉化率，可通過改變投料配比的方式來實現(xiàn)．下列四種投料方式，其中可行的是．

選項	投料方式
A	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：1：2
B	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=1：2：2
C	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=3：2：2
D	n（SiCl4）：n（N2）：n（H2）=2：1：3