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（2010?鄭州一模）某氮的氧化物和CO在催化劑存在下充分反應，生成物質的量之比為1：2的N₂和CO₂，該氧化物是（　�。�

下列離子方程式正確的是（　　）

下列敘述正確的是（　�。�

將6.5g鋅放入足量的稀硫酸中充分反應，得到80mL混合溶液．試計算：
（1）反應完全后，生成標準狀況下的H₂多少L？
（2）所得溶液中硫酸鋅的物質的量濃度是多少？

對一份稀溶液作初步分析發(fā)現，溶液無色、澄清，其中可能含有SO₄^2-、Na⁺、CO₃^2-、H⁺、Cl^- 等離子中的若干種．然后又做了如下實驗，以確認這些離子是否大量存在．
（1）用pH試紙測溶液的pH值，試紙顯紅色；
（2）取2mL上述溶液，加入足量硝酸鋇溶液，結果生成了不溶于稀硝酸的白色沉淀；
（3）�。�2）中的上層清液，加入硝酸銀溶液，結果又生成了不溶于稀硝酸的白色沉淀．
問：上述實驗可以確定溶液中一定含有離子，一定沒有離子．
設計實驗方案檢驗不能確定的其他離子．．

現用質量分數為98%、密度為1.84g?cm^-3的濃硫酸來配制500mL、0.2mol?L^-1的稀硫酸．可供選擇的儀器有：①玻璃棒 ②燒瓶 ③燒杯 ④膠頭滴管 ⑤量筒 ⑥容量瓶 ⑦托盤天平 ⑧藥匙．請回答下列問題：
（1）上述儀器中，在配制稀硫酸時用不到的有（填代號）．
（2）經計算，需濃硫酸的體積為mL（保留一位小數）；
現有①10mL  ②50mL  ③100mL三種規(guī)格的量筒，你選用的量筒是．（填代號）
（3）將濃硫酸加適量蒸餾水稀釋后，冷卻片刻，隨后全部轉移到 mL的容量瓶中，轉移時應用玻璃棒．轉移完畢，用少量蒸餾水洗滌燒杯和2～3次，并將洗滌液全部轉移到容量瓶中，再加適量蒸餾水，振蕩容量瓶，使溶液混合均勻．然后緩緩地把蒸餾水直接注入容量瓶直到液面接近瓶頸刻度cm處，改用滴加蒸餾水到凹液面的最低點與刻度線相切．塞上瓶塞、搖勻后，把溶液倒入試劑瓶、貼上標簽．
（4）定容時，俯視刻度線，所配溶液的物質的量濃度將（選填“偏高”、“偏低”或“不變”）．

已知碳有兩種常見的同位素¹²₆C、¹³₆C；氧有三種常見的同位素¹⁶₈O、¹⁷₈O、¹⁸₈O．
（1）由這五種微粒構成的CO的分子有種．
（2）本題中涉及種核素，種元素．
（3）一個相對分子質量最大的二氧化碳分子中有個電子，個中子；0.5mol這種二氧化碳的質量是g．

單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料．科學家預計，到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管，其功能遠比我們想象的要大的多，這對硅的純度要求很高．用化學方法可制得高純度硅，其化學方程式為：①SiO₂+2C 

高溫  .

Si+2CO     ②Si+2Cl₂

點燃  .

SiCl₄③SiCl₄+2H₂Si+4HCl．回答下列問題：
（1）上述反應中，屬于氧化還原反應的是（填序號）．
（2）反應①和③屬于．
A．化合反應      B．分解反應       C．置換反應      D．復分解反應
（3）下列描述正確的是．
A．氧化還原反應都是置換反應
B．判斷一個反應是否為氧化還原反應的依據是否有化合價的升降
C．化合反應全部都是氧化還原反應          D．復分解反應全部都是氧化還原反應．

（1）從30mL0.5mol?L^-1 NaOH溶液中取出10mL：這10mL溶液的物質的量濃度是mol?L^-1，其中的溶質質量是g．
（2）將30mL0.5mol?L^-1 NaOH溶液加水稀釋到500mL，稀釋后溶液中NaOH的物質的量濃度是mol?L^-1．
（3）現有體積相同的NaCl、MgCl₂、AlCl₃三種溶液，分別加入足量的硝酸銀溶液，Cl^-沉淀完全時，消耗等物質的量的AgNO₃，則三種溶液的物質的量濃度之比為．