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下列反應(yīng)中,屬于復(fù)分解反應(yīng)的是(    )

A.實驗室制取氫氣的反應(yīng)B.曾青得鐵則化為銅

C.碳酸鈣受熱分解D.硫酸銅溶液中滴加氫氧化鈉溶液出現(xiàn)藍(lán)色絮狀沉淀

D


解析:

D符合復(fù)分解反應(yīng)的特點,故符合題意,A是金屬置換生成H2的反應(yīng)。B為金屬間的置換反應(yīng),C為分解反應(yīng)。

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

查閱有關(guān)資料知:金屬鋁與氫氧化鈉溶液反應(yīng)實際是分以下兩步進(jìn)行:
第一步:2Al+6H2O=2Al(OH)3+3H2
第二步:Al(OH)3+NaOH=NaAlO2+2H2O
試回答下列問題:
(1)書寫金屬鋁與氫氧化鈉溶液反應(yīng)的化學(xué)方程式
2Al+2H2O+2NaOH=2NaAlO2+3H2
2Al+2H2O+2NaOH=2NaAlO2+3H2

(2)判斷兩步反應(yīng)的反應(yīng)類型(用四種基本反應(yīng)類型作答)
①第一步屬
置換反應(yīng)
置換反應(yīng)
,②第二步屬
復(fù)分解反應(yīng)
復(fù)分解反應(yīng)

(3)用雙線橋標(biāo)出以上兩步反應(yīng)中屬于氧化還原反應(yīng)的電子轉(zhuǎn)移的方向和總數(shù)

(4)根據(jù)你的分析,金屬鋁與氫氧化鈉溶液反應(yīng)中氧化劑是
,還原劑是

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2009?上海一模)2005年諾貝爾化學(xué)獎授予了三位科學(xué)家,以表彰他們在烯烴復(fù)分解反應(yīng)研究方面所取得的成績.已知烯烴的交叉復(fù)分解反應(yīng)機理為雙鍵斷裂,換位連接.如:CH2=CHR1+CH2=CHR2
 催化劑 
.
 
CH2=CH2+R1CH=CHR2;又已知:①R-CH2-CH=CH2+Cl2 
500℃
 R-CHCl-CH=CH2+HCl②F是油脂水解產(chǎn)物之一,能與水任意比互溶;K是一種塑料;I的分子式為C9H14O6

請回答下列問題:
(1)C4H8屬于烯烴的同分異構(gòu)體有
3
3
種;
(2)分子式為C4H8的所有烯烴通過烯烴復(fù)分解反應(yīng)后生成的C5H10
2
2
種結(jié)構(gòu);
(3)請寫出物質(zhì)I的結(jié)構(gòu)簡式:
;
(4)寫出下列反應(yīng)方程式:C→D:
CH3CH=CH2+Cl2
500℃
Cl-CH2CH=CH2+HCl
CH3CH=CH2+Cl2
500℃
Cl-CH2CH=CH2+HCl
;
(5)K中的鏈節(jié)是
;K屬于
線型
線型
(線型、體型)結(jié)構(gòu).

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(6分)單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料?茖W(xué)家預(yù)計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅,其化學(xué)方程式為:     ①SiO2 + 2C  Si+ 2CO     ②Si + 2Cl2SiCl4

③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl。回答下列問題:

(1)上述反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是            (填序號)。

(2)反應(yīng)①和③屬于           。

A.化合反應(yīng)      B.分解反應(yīng)      C.置換反應(yīng)      D.復(fù)分解反應(yīng)

(3)下列描述正確的是         

A.氧化還原反應(yīng)都是置換反應(yīng)

B.判斷一個反應(yīng)是否為氧化還原反應(yīng)的依據(jù)是是否有化合價的升降

C.化合反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)          D.復(fù)分解反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)

 

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科目:高中化學(xué) 來源:2011-2012學(xué)年浙江省溫州市直六校協(xié)作體高一第一學(xué)期期中考試化學(xué)試卷 題型:填空題

(6分)單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料?茖W(xué)家預(yù)計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅,其化學(xué)方程式為:    ①SiO2 + 2C Si + 2CO    ②Si + 2Cl2SiCl4
③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl;卮鹣铝袉栴}:
(1)上述反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是           (填序號)。
(2)反應(yīng)①和③屬于           。
A.化合反應(yīng)      B.分解反應(yīng)       C.置換反應(yīng)      D.復(fù)分解反應(yīng)
(3)下列描述正確的是         。
A.氧化還原反應(yīng)都是置換反應(yīng)
B.判斷一個反應(yīng)是否為氧化還原反應(yīng)的依據(jù)是是否有化合價的升降
C.化合反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)          D.復(fù)分解反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)

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科目:高中化學(xué) 來源:2014屆浙江省溫州市直六校協(xié)作體高一第一學(xué)期期中考試化學(xué)試卷 題型:填空題

(6分)單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料。科學(xué)家預(yù)計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅,其化學(xué)方程式為:     ①SiO2 + 2C  Si + 2CO     ②Si + 2Cl2SiCl4

③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl;卮鹣铝袉栴}:

(1)上述反應(yīng)中,屬于氧化還原反應(yīng)的是            (填序號)。

(2)反應(yīng)①和③屬于            。

A.化合反應(yīng)      B.分解反應(yīng)       C.置換反應(yīng)      D.復(fù)分解反應(yīng)

(3)下列描述正確的是         

A.氧化還原反應(yīng)都是置換反應(yīng)

B.判斷一個反應(yīng)是否為氧化還原反應(yīng)的依據(jù)是是否有化合價的升降

C.化合反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)          D.復(fù)分解反應(yīng)全部都是氧化還原反應(yīng)

 

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