Question

（16分）鹵塊的主要成分是MgCl₂，此外還含有少量的Fe^3＋、Fe^2＋和Mn^2＋等離子。以鹵塊為原料制取輕質氧化鎂工藝以及相關數(shù)據(jù)如下：

常溫下生成氫氧化物沉淀的pH數(shù)據(jù)：

物 質	開始沉淀時的pH	沉淀完全時的pH
Fe(OH)3	2.7	3.7
Fe(OH)2	7.6	9.6
Mn(OH)2	8.3	9.8
Mg(OH)2	9.6	11.1

回答下列問題：
（1）加入NaClO后產生少量紅褐色沉淀。寫出加入NaClO后發(fā)生的離子反應方程式：_____________________。
（2）為盡量除去雜質，用NaOH調節(jié)pH。當溶液pH為________  時，停止加入NaOH。
（3）流程圖中操作X是_______________。
（4）加入Na₂CO₃后，加水煮沸的化學方程式為_________________________________。向除去Fe^3＋、Fe^2＋和Mn^2＋等離子后的濾液中改加Na₂CO₃，而不繼續(xù)加入NaOH，你認為可能的原因是___________________ __                                  。

Answer 1

（1）3ClO^－＋6Fe^2＋＋3H₂O＝2Fe(OH)₃↓＋4Fe^3＋＋3Cl^－  （4分）
（2）9.8 （3分）
（3）過濾洗滌灼燒 （3分）
（4）MgCO₃＋H₂OMg(OH)₂＋CO₂↑（3分）使用NaOH的生產成本大（3分）

略