Question

下列離子方程式正確的是 （　　）

• A、氯化銨與氫氧化鈉兩種溶液混合加熱：NH₄⁺+OH^-═NH₃↑+H₂O
• B、用FeCl₃溶液腐蝕印刷電路板：Fe³⁺+Cu=Fe²⁺+Cu²⁺
• C、氫氧化鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體：SO₂+OH^-=HSO₃^-
• D、氯化鋁溶液中加入過量 氨水：Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺

Answer 1

考點：離子方程式的書寫

專題：離子反應專題

分析：A．氯化銨與氫氧化鈉加熱生成氯化鈉和氨氣、水；
B．電荷不守恒；
C．氫氧化鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體生成亞硫酸鈉和水；
D．氯化鋁溶液中加入過量氨水反應生成氫氧化鋁和氯化銨．

解答： 解：A．氯化銨與氫氧化鈉生成氯化鈉和氨氣、水，離子方程式為：NH₄⁺+OH^-═NH₃?H₂O，故A錯誤；
B．FeCl₃溶液腐蝕印刷電路板，離子方程式：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故B錯誤；
C．氫氧化鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體生成亞硫酸鈉和水，離子方程式：SO₂+2OH^-=H₂O+SO₃^2-，故C錯誤；
D．氯化鋁溶液中加入過量 氨水，離子方程式：Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故D正確；
故選：D．

點評：本題考查離子反應方程式書寫的正誤判斷，書寫離子方程式要遵循客觀事實、原子守恒、轉(zhuǎn)移電子守恒，題目難度不大．