(14分)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。查閱相關(guān)資料獲悉: a.四氯化硅遇水極易水解;
b.鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
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物質(zhì) |
SiCl4 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
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沸點(diǎn)/℃[來源:] |
57.7 |
— |
315 |
— |
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熔點(diǎn)/℃ |
-70.0 |
— |
— |
— |
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升華溫度/℃ |
— |
180 |
300 |
162 |
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請回答下列問題:
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式 。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是 ;裝置C中的試劑是 ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是 。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,含有鐵、鋁等元素的雜質(zhì)。為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原反應(yīng)滴定,錳元素被還原為Mn2+。
①寫出用KMnO4滴定Fe2+的離子方程式: ;
②滴定前是否要滴加指示劑? (填“是”或“否”),判斷滴定終點(diǎn)的方法是 。
③某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml試樣溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是 。若滴定前平視,滴定后俯視KMnO4液面,對(duì)測定結(jié)果有何影響 (填“偏高”、“偏低”、或“無影響”)
(1)MnO2+4H++2Cl-
Mn2++Cl2↑+2H2O
(2)平衡壓強(qiáng),使液體順利滴下;濃硫酸;使SiCl4冷凝
(3)①5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
②否(1分);當(dāng)?shù)稳胱詈笠坏蜬MnO4溶液時(shí),溶液顏色由無色變?yōu)樽仙,?0秒不褪色;(2分)③4.480% ;偏低(各2分)
【解析】(1)裝置A是制取氯氣的,所以發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是
MnO2+4H++2Cl-
Mn2++Cl2↑+2H2O。
(2)要使分液漏斗中的液體順利滴下,所以作用是平衡壓強(qiáng),使液體順利滴下;應(yīng)用四氯化硅遇水極易水解,所以在通入裝置D之前需要,需要干燥處理,即裝置C中的試劑是濃硫酸;SiCl4的熔點(diǎn)較低,所以作用是使SiCl4冷凝。
(3)①酸性高錳酸鉀溶液就有強(qiáng)氧化性,能把亞鐵離子氧化生成鐵離子,反應(yīng)的方程式是5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O。
②由于酸性高錳酸鉀溶液,在溶液中顯紫紅色,所以不需要另加指示劑。因此終點(diǎn)時(shí)的現(xiàn)象是當(dāng)?shù)稳胱詈笠坏蜬MnO4溶液時(shí),溶液顏色由無色變?yōu)樽仙?0秒不褪色。
③根據(jù)反應(yīng)式可知,25.00ml溶液中亞鐵離子的物質(zhì)的量是0.0200L×0.01mol/L×5=0.001mol,所以殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是
;若滴定前平視,滴定后俯視KMnO4液面,則消耗高錳酸鉀溶液的體積減少,則測定結(jié)果偏低。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解
| 物質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸點(diǎn)/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
| 熔點(diǎn)/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
| 升華溫度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解
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相關(guān)信息如下:
a.四氯化硅遇水極易水解;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
物質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl下標(biāo)5 |
沸點(diǎn)/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔點(diǎn)/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題:
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式____________。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是____________;裝置C中的試劑是;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是____________________________________。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是____________(填寫元素符號(hào))。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2+,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:5Fe2++MnO-4+8H+====5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示劑?________(填“是”或“否”),請說明理由__________________。
②某同學(xué)稱取5.000 g殘留物,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是________________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關(guān)信息如下:
a.四氯化硅遇水極易水解;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
請回答下列問題:
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式 。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是 ;裝置C中的試劑是 ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是 。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 (填寫元素符號(hào))。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:
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①滴定前是否要滴加指示劑? (填“是”或“否”),請說明理由 。
②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是 。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關(guān)信息如下:
a.四氯化硅遇水極易水解;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
請回答下列問題:
www.ks5.u.com
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式 。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是 ;裝置C中的試劑是 ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是 。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 (填寫元素符號(hào))。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:
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①滴定前是否要滴加指示劑? (填“是”或“否”),請說明理由 。
②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是 。
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科目:高中化學(xué) 來源:2013屆安徽省高三第一次統(tǒng)考化學(xué)試卷(解析版) 題型:實(shí)驗(yàn)題
(10分)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450~500℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。
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相關(guān)信息如下:
①四氯化硅遇水極易水解;
②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
③有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
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物質(zhì) |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
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沸點(diǎn)/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
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熔點(diǎn)/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
— |
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升華溫度/℃ |
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180 |
300 |
162 |
請回答下列問題:
(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式 。
(2)裝置A中g(shù)管的作用是 ;裝置C中的試劑是 ;
裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是 。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 (填寫元素符號(hào))。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2+,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:
5Fe2++MnO4-+8H+
5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示劑? (填“是”或“否”),請說明理由
。
②某同學(xué)稱取5.000g殘留物后,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000×10-2 mol/L KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是 。
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