Question

15．下列離子方程式中正確的是（　�。�

• A． 工業(yè)上粗硅的制備：SiO₂+C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+CO₂↑
• B． Cu₂O與稀H₂SO₄反應(yīng)：Cu₂O+2H⁺═2Cu⁺+H₂O
• C． 用稀硝酸洗滌試管內(nèi)壁的銀鏡：3Ag+4H⁺+NO₃^-═3Ag⁺+NO↑+2H₂O
• D． 向Mg（HCO₃）₂溶液中加足量燒堿溶液：Mg²⁺+2HCO₃^-+2OH^-═MgCO₃↓+2H₂O+CO₃^2-

Answer 1

分析 A．不符合反應(yīng)客觀事實(shí)；
B．二者反應(yīng)生成硫酸銅和銅、水；
C．硝酸具有強(qiáng)的氧化性，能夠氧化銀生成可溶性硝酸銀；
D．燒堿足量反應(yīng)生成氫氧化鎂和碳酸鈉、水．

解答 解：A．工業(yè)上粗硅的制備，離子方程式：SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑，故A錯(cuò)誤；
B．Cu₂O與稀H₂SO₄反應(yīng)，離子方程式：Cu₂O+2H⁺═Cu²⁺+H₂O+Cu，故B錯(cuò)誤；
C．用稀硝酸洗滌試管內(nèi)壁的銀鏡，離子方程式：3Ag+4H⁺+NO₃^-═3Ag⁺+NO↑+2H₂O，故C正確；
D．向Mg（HCO₃）₂溶液中加入過(guò)量的NaOH溶液，離子方程式：Mg²⁺+2HCO₃^-+4OH^-═Mg（OH）₂↓+2CO₃^2-+2H₂O，故D錯(cuò)誤；
故選：C．

點(diǎn)評(píng) 本題考查了離子方程式的書(shū)寫(xiě)，側(cè)重考查氧化還原反應(yīng)、復(fù)分解反應(yīng)的量子方程式書(shū)寫(xiě)，明確反應(yīng)實(shí)質(zhì)是解題關(guān)鍵，注意氧化還原反應(yīng)得失電子守恒，注意離子反應(yīng)遵循客觀事實(shí)，題目難度中等．