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二氧化硅、石灰石和純堿（設(shè)均不含雜質(zhì)），按質(zhì)量比為18:5:5．3的比例混和，熔制得到玻璃，求玻璃中氧化物的質(zhì)量百分組成？

答案：
解析：

三種反應(yīng)物之間物質(zhì)的量比：SiO

:CaCO

:Na

＝6:1:1

熔制玻璃過(guò)程有兩個(gè)反應(yīng)方程式：

SiO₂＋CaCO₃CaSiO₃＋CO₂↑

SiO₂＋Na₂CO₃Na₂SiO₃＋CO₂↑

熔制過(guò)程只放出二氧化碳?xì)怏w，其他成分不變。硅酸鹽的成分通常用氧化物的形式表示。氧化物的物質(zhì)的量之比為：

SiO₂:CaO:Na₂O＝6:1:1

氧化物的質(zhì)量比為：

SiO₂:CaO:Na₂O=(6×60):(1×56) :(1×62)=360:56:62

氧化物總質(zhì)量的份數(shù)：360＋56＋62＝478（份）

質(zhì)量百分組成為：

SiO：×100％≈75.3％

CaO：×100％≈11.7％

NaO：×100％≈13％

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

①寫(xiě)出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________________。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式_________________；H₂還原SiHCl₃過(guò)程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________。

（2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是__________________（填字母）。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋_______________________________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

①寫(xiě)出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式；H₂還原SiHCl₃過(guò)程中若混入O₂，可能引起的后果是。

（2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是 (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高

E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013學(xué)年江西省德興一中、橫峰中學(xué)、鉛山一中、弋陽(yáng)一中高一第三次月考化學(xué)試卷（帶解析） 題型：填空題

（10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

①寫(xiě)出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 。
(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2016屆吉林省高一上學(xué)期期末考試化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

①寫(xiě)出由純制備高純硅的化學(xué)方程式: ____________________________________。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為_(kāi)__________________________;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是____________________________________。