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13.A、B、C、D、E是原子序數(shù)依次增大的短周期主族元素,A是短周期中金屬性最強的元素,B是地殼中含量最高的金屬元素,C單質的晶體是良好的半導體材料,D的最外層電子數(shù)與內層電子數(shù)之比為3:5.
(1)C的原子結構示意圖為,D在元素周期表中的位置第3周期第VIA族
(2)A單質在氧氣中燃燒生成化合物甲,甲中所含化學鍵類型為離子鍵、共價鍵;A單質在E單質中燃燒生成化合物乙,用電子式表示乙的形成過程
(3)F是中學化學常見元素,它的一種氧化物為紅棕色粉末,B單質與其在高溫條件下反應是冶煉F單質的方法之一,該反應的化學方程式為Fe2O3+2Al$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$2Fe+Al2O3
(4)A、B、D、E的離子半徑由大到小的順序為:S2->Cl->Na+>Al3+;(請用化學用語填寫,下同)C、D、E的氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性由大到小的順序為:HCl>H2S>SiH4

分析 A、B、C、D、E是原子序數(shù)依次增大的短周期元素,A是短周期中金屬性最強的元素,則A是Na元素,B是地殼中含量最高的金屬元素,則B是Al元素,C單質的晶體是良好的半導體材料,則C為Si元素,D的最外層電子數(shù)與內層電子數(shù)之比為3:5,原子有3個電子層,最外層電子數(shù)為6,則D為S元素,故E為Cl元素.

解答 解:A、B、C、D、E是原子序數(shù)依次增大的短周期元素,A是短周期中金屬性最強的元素,則A是Na元素,B是地殼中含量最高的金屬元素,則B是Al元素,C單質的晶體是良好的半導體材料,則C為Si元素,D的最外層電子數(shù)與內層電子數(shù)之比為3:5,原子有3個電子層,最外層電子數(shù)為6,則D為S元素,故E為Cl元素.
(1)C為Si元素,原子結構示意圖為:,D為S元素,在周期表中位置為:第3周期第VIA族,
故答案為:;第3周期第VIA族;
(2)A為Na,單質在氧氣中燃燒生成化合物甲為過氧化鈉,過氧化鈉中含有離子鍵、共價鍵,鈉在氯氣中燃燒生成NaCl,用電子式表示形成過程為:
故答案為:離子鍵、共價鍵;;
(3)F是中學化學常見元素,它的一種氧化物為紅棕色粉末,則F為Fe,紅棕色粉末為氧化鐵,鋁單質與氧化鐵在高溫條件下反應是冶煉鐵的方法之一,該反應的化學方程式為:Fe2O3+2Al$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$2Fe+Al2O3,
故答案為:Fe2O3+2Al$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$2Fe+Al2O3;
(4)A、B、D、E形成的簡單離子分別為:Na+、Al3+、S2-、Cl-,電子層結構相同,核電荷數(shù)越大離子半徑越小,電子層越多離子半徑越大,故離子半徑:S2->Cl->Na+>Al3+,
非金屬性Cl>S>Si,元素的非金屬性越強,對應的氣態(tài)氫化物的穩(wěn)定性越強,即氫化物穩(wěn)定性:HCl>H2S>SiH4,
故答案為:S2->Cl->Na+>Al3+;HCl>H2S>SiH4

點評 本題考查結構性質位置關系應用,推斷元素是解題關鍵,掌握微粒半徑比較與元素周期律,掌握用電子式表示物質或化學鍵的形成.

練習冊系列答案
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